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高功率磁控濺射(HiPIMS) 制備ITO柔性膜

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等離子體(表面功能化)定制設(shè)備

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高能脈沖復合PVD設(shè)備

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高能脈沖弧PVD設(shè)備

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HiPIMS設(shè)備：高能脈沖弧PVD設(shè)備及脈沖復合PVD設(shè)備

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管道內(nèi)壁PECVD鍍膜設(shè)備

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高功率磁控濺射(HiPIMS) 制備ITO柔性膜

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管道內(nèi)壁PECVD鍍膜設(shè)備

管道內(nèi)壁PECVD鍍膜設(shè)備

管道內(nèi)壁PECVD鍍膜設(shè)備可進行至少12m長度的管道內(nèi)壁涂層制作，管道內(nèi)徑可從50mm~300mm選擇、涂層性能分為超潤滑涂層、超硬涂層、抗沖擊涂層、耐磨涂層。

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